Опис
Вакуумна установка ВУ-1А призначена для нанесення покриттів на оптичні деталі методом резистивного та електронно-променевого випаровування діелектриків, напівпровідникових матеріалів та металів з одночасним контролем товщини покриття. Установка забезпечує можливість нанесення багатошарових ахроматичних покриттів на деталях серійної продукції, а також металевих одношарових просвітлювальних, інтерференційних дзеркальних, фільтруючих та інших для різних областей спектру. Установка може експлуатуватись у закритих сухих приміщеннях промислових об’єктів категорії 4.2. за ГОСТ 15150-69 та кліматичних умовах:
температура довкілля від 170С до 270С; відносна вологість від 40 до 75%;
атмосферний тиск від 8,4.104 до 10,6.104Па (630 до 780 мм.рт.ст.) До складу установки входить:
відкачувальний пост (з високовакуумними відкачуваними засобами, вакуумною системою та пневмо-гідроапаратурою);
форвакуумний агрегат;
електрообладнання (з двома стійками управління-керування вакуумною системою та управління технологічними джерелами).
Технічні характеристики
Тиск у камері при одночасному нагріванні її до 3200С та при охолодженні всіх пасток рідким азотом, Па 4х10-4
Час досягнення тиску 4.10-4Па, хв, не більше 30
Регульована температура нагрівання в камері, від 100 до 320
Кількість резистивних випарників, прим. 2
Кількість електронно-променевих випарників, прим. 1
Місткість деталей розмірами, шт.
діаметром 40 мм 70
діаметром 70 мм 6
Напруга джерела живлення тліючого розряду іонної очистки на холостому ходу,
від 2175± 20% до 4350± 20%
Максимальний струм розряду тліючого іонного очищення А, не більше 0,4
Максимально допустимий струм резистивного випарника при напрузі на трансформаторах А, не більше:
12В 300 24В 150
Максимальний струм електронно-променевого випарника, ма 480±20
Потужність, що споживається установкою, кВт, не більше 20
Маса установки, кг, не більше 1900
Площа, яку займає установка, м2, не більше 6
